- 商品名稱：科晶 VTC-600-2HD型 雙靶 磁控濺射鍍膜機
- 商品型號：VTC-600-2HD
- 品牌：科晶KEJING
- 上架時間：2018-03-15
- 供貨商家：上海新諾儀器設備有限公司
- 相關型號： VTC-600-2HD VTC-600-3HD
沈陽科晶 VTC-600-2HD型 雙靶磁控濺射儀
儀器概述：
VTC-600-2HD 雙靶磁控濺射儀是新研制開發的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。
主要技術特點：
1、配置兩個靶槍，一個為配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個為配套直流電源用于導電類材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
主要技術參數：
產品型號 | VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 | ||
安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶?6mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風裝置：需要 | ||
技術參數 | 1、電源電壓：220V 50Hz 2、最大功率：<560W（不含真空泵） 3、極限真空度：< E-6mbar（配合本公司設備使用可達到 E-5mbar） 4、工作溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據實際需要提升溫度） 5、靶槍數量：2個（可選配其他數量） 6、靶槍冷卻方式：水冷 7、靶材尺寸：?2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同） 8、直流濺射功率：500W（可選） 9、射頻濺射功率：300W/500W（可選） 10、載樣臺：?140mm 11、載樣臺轉速：1rpm-20rpm內可調 12、保護氣體：Ar、N2等惰性氣體 13、進氣氣路：質量流量計控制2路進氣，每個流量為100SCCM | ||
產品規格 | 1、主機尺寸：500mm×560mm×660mm 2、整機尺寸：1300mm×660mm×1200mm 3、重量：160kg | ||
標準配件 | 1 | 直流電源控制系統 | 1套 |
2 | 射頻電源控制系統 | 1套 | |
3 | 膜厚監測儀系統 | 1套 | |
4 | 分子泵（德國進口） | 1臺 | |
5 | 冷水機 | 1臺 | |
6 | 冷卻水管（?6mm） | 4根 | |
可選配件 | 金、銦、銀、白金等各種靶材 | ||
操作視頻：
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